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光學系統
• LightWing 技術: Paschen-Runge裝置的多CMOS光學系統和優化的像素分辨率
• 焦距: 400 mm
• 波長: OE720: 174-670* nm / OE750: 119-670* nm (*按需求可至766 nm)
• 波長實時校準
電源
• E100 - 240V AC 50/60 Hz
• 最大功率: 430 W
• 待機功率 45 W (光源打開時功率 : 50 W)
•覆蓋所有元素,以低檢出限進行完整的金屬分析
•高光學分辨率,可控制雜質和痕量元素
•出色的長期穩定性、精度和準确性
•OE750:分析氣體(钛中的氫和氧,銅中的氧)
•購買價格和運行成本合理,性能可與更昂貴的分析儀相提并論
•包括全面的金屬數據庫,可快速,輕松地識别牌号
•可選的進料校正軟件可實現較佳過程控制
•與基于雲的數據管理的連接
• 過程的質量控制和冶煉的驗證:分析模式/牌号鑒定
• 為所有相關的合金、殘留物、處理、痕量元素和雜質元素提供較低檢出限
• 鐵:合金、鑄鐵,氮含量低至10 ppm (僅OE750)
• 鋁:合金、鑄造合金、鍛造合金……
• 銅:青銅、黃銅、白銅……
• 鎳:哈氏合金、Inconel合金、蒙乃爾合金,氮元素低至20 ppm
• 钛:純钛、钛6-4、钛8-錳,包括氫、氧、氮等氣體元素 (僅OE750)
• 鎂、钴、鉛、錫、鋅合金、焊料及其他
光學系統
• LightWing 技術: Paschen-Runge裝置的多CMOS光學系統和優化的像素分辨率
• 焦距: 400 mm
• 波長: OE720: 174-670* nm / OE750: 119-670* nm (*按需求可至766 nm)
• 波長實時校準
電源
• E100 - 240V AC 50/60 Hz
• 最大功率: 430 W
• 待機功率 45 W (光源打開時功率 : 50 W)
•覆蓋所有元素,以低檢出限進行完整的金屬分析
•高光學分辨率,可控制雜質和痕量元素
•出色的長期穩定性、精度和準确性
•OE750:分析氣體(钛中的氫和氧,銅中的氧)
•購買價格和運行成本合理,性能可與更昂貴的分析儀相提并論
•包括全面的金屬數據庫,可快速,輕松地識别牌号
•可選的進料校正軟件可實現較佳過程控制
•與基于雲的數據管理的連接
• 過程的質量控制和冶煉的驗證:分析模式/牌号鑒定
• 為所有相關的合金、殘留物、處理、痕量元素和雜質元素提供較低檢出限
• 鐵:合金、鑄鐵,氮含量低至10 ppm (僅OE750)
• 鋁:合金、鑄造合金、鍛造合金……
• 銅:青銅、黃銅、白銅……
• 鎳:哈氏合金、Inconel合金、蒙乃爾合金,氮元素低至20 ppm
• 钛:純钛、钛6-4、钛8-錳,包括氫、氧、氮等氣體元素 (僅OE750)
• 鎂、钴、鉛、錫、鋅合金、焊料及其他